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东芝和NuFlare荣获第59届大河内纪念生产奖

2013-02-19 来源:美国商业资讯责任编辑:未填 浏览数:未显示 中贸商网-贸易商务资源网

核心提示:  --因开发并应用LSI光罩直写设备而获此嘉奖--  东京--(美国商业资讯)--东芝公司(Toshiba Corporation) (TOKYO:6502)和NuFla

  --因开发并应用LSI光罩直写设备而获此嘉奖--

  东京--(美国商业资讯)--东芝公司(Toshiba Corporation) (TOKYO:6502)和NuFlare Technology, Inc. (NFT) (JASDAQ:6256)因共同开发并实际应用电子束(EB)光罩直写设备(mask writer)荣获第59届大河内纪念生产奖(The 59th Okochi Memorial Grand Production Prize),颁奖典礼将于3月22日在东京举行。

  大规模集成电路(LSI)使用平版印刷工具制造,用于将主电路图案投射到晶圆上并进行收缩。主电路图案**初通过电子束光罩直写设备写入光罩上。此前,大部分电子束光罩直写设备都使用点波束来写入图案,但需要通过缩放LSI使其变小。这就增加了光罩的写入时间,成为提高光罩制作效率的主要难题。

  东芝和NFT合力开发出一种实用的电子束光罩直写设备,其写入精度和效率均有所提高。该电子束光罩直写设备利用了可变形状束(VSB)光罩写入方法,可将电子束塑造成所需形状填充到图案中。

  两家公司研制了一种新颖的公式与计算系统,能够更快、更精准地校正近距离效果,避免了出现来自光罩基底的散射电子改变电子束曝光,从而降低光罩图样**度的现象。此前的技术需要数天时间进行计算,从而将目标计算误差控制在0.5%以内。新公式将计算时间缩短到1小时内,从而能够将实时计算与图案写入(电子束扫描和工具阶段性运动)进行调整。

  高亮度电子源的开发与应用缩短了光罩写入时间。这一点是通过改善电子源材料和操作条件来提升亮度(一定时间内放出的电子数量)而实现的。这**终将电子束曝光到光罩上所需的时间缩短了95%,进而大幅缩短写入时间。

  双方公司将继续推进创新技术,以期满足对精度和效率更高的光罩直写设备高涨的需求。

  关于东芝

  东芝是一家全球**的多元化制造商、解决方案提供商以及**电子电器产品营销商。东芝集团的创新和成像业务非常广泛,包括:数码产品,包括LCD电视、笔记本电脑、零售解决方案和多功能一体机(MFP);电子产品,包括半导体、存储产品和材料;工业和社会基础设施系统,包括发电系统、智能社区解决方案、医疗系统以及扶手电梯和升降机;以及家用电器。

  东芝成立于1875年,如今运营有一个由550多家各级公司组成的全球网络,在全球拥有202,000名员工,年销售额逾6.1万亿日元(约合740亿美元)。请访问东芝网站:www.toshiba.co.jp/index.htm

  免责声明:本公告之原文版本乃**授权版本。译文仅供方便了解之用,烦请参照原文,原文版本乃**具法律效力之版本。

  联系方式:

  东芝半导体 & 存储产品公司

  Megumi Genchi / Kunio Noguchi, +81-3-3457-3367

  semicon-NR-mailbox@ml.toshiba.co.jp

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